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闵行石墨盘专用真空烤盘炉,.产品介绍 真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。 二、设计特点 1、后门设计热风电机 2、降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向 3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的 三、技术指标 1、使用温度:1450℃;温度:1500℃; 2、绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸; 4、加热元件:石墨加热棒; 5、冷却方式:气冷 + 循环风冷降温; 6、控温稳定度:±2℃,具有PID参数自整定功能; 7、炉膛温度均匀度:±5℃(恒温1500℃); 8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%; 9、真空: 10-3torr级; 10、抽气速率:空载下,30min达到10-2torr 11、升温功率:170kW; 12、升温速率:15℃/min(空载); 13、降温速率:1450℃至80℃,240分钟 14、腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高) *技术细节变动之处,恕不另行通知,具体设备参数以咨询结果为准。
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